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材料合成与制备平台
来源:    上传时间:2021-10-18

   

本平台拥有进口超高真空磁控溅射仪、微波水热反应仪、微波烧结炉、球磨机、手套箱等材料制备与加工设备,可开展纳米颗粒、功能薄膜与陶瓷等新型光电材料的制备及工艺研究。

 

仪器名称: PVD-75型磁控溅射系统

制造商: 美国Kurt-Lesker公司

主要用途:用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。该系统具有很好的薄膜制备均匀性和重复性以及高真空度,高安全性等优点。

性能参数:溅射模式:直流、射频;

溅射电源:直流、射频电源各一套;

最大功率:直流300W,射频500W;

极限真空度:优于5×10-8托;

样品加热:室温-600℃;

衬底尺寸:最大6英寸平板基片,向下兼容,衬底平台可自转;

靶位:3个2英寸磁控溅射靶,靶位可弯折实现共溅;

工艺气体:O2、Ar,均由MFC控制;

 

仪器名称:Biotage Initiator+ 微波化学合成仪

主要用途:应用于有机/无机合成、纳米和高分子聚合物、材料等领域,在温度,压力,操作系统,控制系统均有了升级。300℃/30bar的条件可执行更为困难的反应,更灵活地选择溶剂,可运行低沸点溶剂至更高温度。

性能参数:温度范围:40-300℃;压力范围:0-30bar;容积:0.2-30mL;全自动控制,模块化设计,8位自动进样;实时功率、温度、压力测量、记录

 

仪器名称:手套箱

性能参数:箱体尺寸:两个不锈钢箱体,大:1200mm×750mm×900mm;

小:1200mm×300mm×900mm;

水氧含量:H2O<1ppm ,o2<1ppm ;泄露率:<0.001vol%/h;

大过渡仓尺寸:370×600mm,具有自动抽气和充气功能;小过渡仓尺寸:150 × 300mm;循环风机流量:603m/h;  箱体压力: +10 至-10毫巴

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